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低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置

低溫等離子除臭裝置是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在短的時間內(nèi)發(fā)生分解,以達到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。

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  • 產(chǎn)品概述
  • 技術(shù)原理
  • 性能優(yōu)勢
  • 適用范圍

產(chǎn)品概述 Product description

產(chǎn)品概述

低溫等離子除臭設(shè)備是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在短的時間內(nèi)發(fā)生分解,以達到降解污染物的目的的一種環(huán)保設(shè)備。




技術(shù)原理 technology principle

產(chǎn)品概述

  首先廢氣經(jīng)均流板過濾棉進入設(shè)備時,由設(shè)備高壓穩(wěn)定高頻放電,瞬間產(chǎn)生1.5萬伏特至2萬伏特高壓,擊穿廢氣。此階段中,長鏈、多鏈廢氣分子由于鍵能較弱,約束力較小。很容易被擊穿化學(xué)鍵破裂,從而變成小分子化合物,此為第一階段凈化。

其次,隨廢氣進入設(shè)備的水分子、氧分子被高壓擊穿斷裂,生成強氧化基團羥基、臭氧分子等。這些強氧化基團與廢氣分子充分接觸氧化,加快反應(yīng)進程。整個反應(yīng)干凈,能量利用率高,凈化效率非常高。

等離子功能段可以激發(fā)污染物能量,促使長鏈、多鏈污染物分子的分子鍵斷裂重組,使難處理的污染物降解為較易處理的低碳污染物。








等離子體化學(xué)反應(yīng)過程 Plasma chemical reaction process 

產(chǎn)品概述

從等離子體反應(yīng)過程可以看出,電子先從電場獲得能量,通過激發(fā)或電離將能量轉(zhuǎn)移到污染物分子中去,那些獲得能量的污染物分子被激發(fā),同時有部分分子被電離,從而成為活性基團。然后這些活性基團與氧氣、活性基團與活性基團之間相互碰撞后生成穩(wěn)定產(chǎn)物和熱。

另外,高能電子也能被鹵素和氧氣等電子親和力較強的物質(zhì)俘獲,成為負離子。這類負離子具有很好的化學(xué)活性,在化學(xué)反應(yīng)中起著重要的作用。






性能優(yōu)勢 Performance advantage

  • 01

    介質(zhì)阻擋放電產(chǎn)生的低溫等離子體中,電子能量高,幾乎可以和所有的惡臭氣體分子作用;

  • 02

    反應(yīng)快,不受氣速限制,氣阻小,工藝成熟;

  • 03

    采用防腐蝕材料,電極與廢氣不直接接觸,根本上解決了設(shè)備腐蝕問題;

  • 04

    只需用電,操作簡單,無需派專職人員看守,基本不占用人工費;

  • 05

    設(shè)備啟動、停止十分迅速,隨用隨開,不受氣溫的影響。

適用范圍 Scope of application

垃圾、污水廠等市政設(shè)施,以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠、制藥廠、印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所。

UV光解廢氣凈化設(shè)備適用范圍

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